В публикации от 3 августа 2026 года в Nature Nanotechnology группа исследователей MIT описала двухэтапный метод изготовления устройств с хрупкими молекулярными материалами. Сначала компоненты создают стандартными полупроводниковыми процессами, а молекулярный слой наносят позже, чтобы агрессивные химические операции не повредили его. Затем капиллярные силы при испарении раствора сближают электроды, а силы Ван-дер-Ваальса удерживают конструкцию в стабильном состоянии.

По данным авторов, метод опробован более чем на 1000 устройствах с молекулярными слоями толщиной менее 1 нанометра; средний выход рабочих устройств составил 96%. Устройства выдержали десятки тысяч электрических циклов без признаков деградации. Исследователи также собрали связанный массив молекулярных элементов памяти. Работа частично поддержана DARPA, Semiconductor Research Corporation, NSF, стипендией MathWorks и Нидерландской организацией научных исследований; часть изготовления велась на объектах MIT.nano.

Авторы называют метод расширяемым на другие материалы и архитектуры, а в числе будущих направлений указывают многофункциональные вычислительные и сенсорные устройства. Эти результаты относятся к лабораторной демонстрации, а не к готовым коммерческим продуктам.